2024年末申请，拓荆创益“匀气结构”专利有何亮点？ 拓荆创益新专利：开启半导体设备气体均匀新时代

本文聚焦于拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，介绍了其在2024年12月申请的“一种匀气结构及半导体设备”专利相关情况，包括专利的公开号、摘要内容，还提及了该公司的基本信息及业务数据。

据金融界2025年4月5日发布的消息，国家知识产权局的信息表明，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司提交了一项具有创新性的专利申请。该专利名为“一种匀气结构及半导体设备”，其公开号为CN 119753635 A，申请日期定格在2024年12月。

从专利摘要中我们可以了解到，此发明所涉及的匀气结构十分精妙。它主要包含两个关键部分，首先是分气挡板。这个分气挡板被巧妙地设置在喷淋板和进气通道之间，并且与喷淋板之间特意留出了一定的间隙。其核心作用是对进入喷淋板的气体进行均匀性处理，值得一提的是，这个间隙会产生一种特殊的壅塞流。另一部分是调节组件，它的功能是对分气挡板与喷淋板之间的间隙距离进行调节。通过这样的调节，能够使壅塞流在间隙内的位置发生改变。该发明通过在喷淋板上方合理配置分气挡板，成功地提升了喷淋板气体分布的均匀性。而且，借助调节装置对间隙距离的调整，改变了分气挡板与喷淋板之间形成的壅塞流位置。这种改变会对气体流场的均匀性产生显著影响，进而作用于对气体分布敏感的参数。如此一来，不仅可以实现不同形状薄膜的生产，还能够确保薄膜厚度在片内的均一性，大大提高了生产效率。

根据天眼查的资料，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司成立于2023年，公司位于沈阳市。这是一家专注于计算机、通信和其他电子设备制造业的企业。该企业的注册资本高达50000万人民币，实缴资本也达到了36168.02万人民币。通过天眼查的大数据分析可知，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司积极参与市场竞争，参与招投标项目多达12次。在财产线索方面，拥有商标信息1条，专利信息更是多达263条。此外，企业还拥有10个行政许可，这显示出该公司在行业内具备较强的实力和规范的运营管理。

本文围绕拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司展开，介绍了其申请的“一种匀气结构及半导体设备”专利，阐述了该专利的具体内容和优势，同时介绍了公司的基本情况和业务数据，展现了公司在半导体设备领域的创新能力和发展潜力。