北京光合声智能科技:可塑电磁波光场叠加成像新突破

本文围绕北京光合声智能科技有限公司的一项专利展开,介绍了专利的基本信息、具体内容以及该公司的相关情况。

在2025年4月5日,金融界发布消息称,依据国家知识产权局所披露的信息,北京光合声智能科技有限公司申请了一项意义非凡的专利。该专利名称为“一种基于可塑电磁波光场叠加分布式成像的方法及装置”,其公开号为CN 119758587 A,申请日期是2024年12月。

从专利摘要中我们可以了解到,本发明实施例所提供的这种基于可塑电磁波光场叠加分布式成像的方法及装置,是属于光学与光电子学领域的创新成果。具体来说,该方法有着一套严谨的流程:首先是获取待测画面,这是整个成像过程的起始点。接着,对获取到的待测画面进行解析分类,从而得到效应参数信息,这里面包含了电磁特性和干扰因素等关键内容。之后,依据这些效应参数信息来确定可塑波元件和光场调控参数。随后,根据确定好的可塑波元件和光场调控参数生成可塑波矩阵,这个可塑波矩阵是由多个可塑波元件组成的电磁矩阵,其主要作用是生成光场。再根据光场调控参数对可塑波矩阵进行聚集,进而得到聚焦参数。最后,根据聚焦参数设置可塑波元件,最终得到区域性光效应对应的画面。值得一提的是,该方法实现了对不同物体、画面部分区域的分别成像,这在成像技术领域无疑是一个重要的突破。

根据天眼查的资料显示,北京光合声智能科技有限公司成立于2024年,其注册地址位于北京市。这是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业,企业注册资本达到了1000万人民币。通过天眼查的大数据分析可知,北京光合声智能科技有限公司有着一定的商业布局,共对外投资了2家企业。同时,该公司在知识产权方面也有所建树,拥有1条专利信息,此外还拥有1个行政许可。

北京光合声智能科技有限公司申请的“一种基于可塑电磁波光场叠加分布式成像的方法及装置”专利,包括专利的申请信息、具体内容,还提及了该公司的基本情况。该专利在成像技术上有重要创新,有望推动光学与光电子学领域的发展。本文总结

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