东方晶源微电子新专利曝光，或提升图形曝光质量，东方晶源微电子版图图形处理专利：为图形质量提升助力

本文围绕东方晶源微电子科技（上海）有限公司展开，介绍了该公司于2025年2月申请的一项版图图形处理相关专利，阐述了专利的具体内容，还提及了公司的基本信息。

据金融界2025年4月5日消息，国家知识产权局公布的信息表明，东方晶源微电子科技（上海）有限公司提交了一项名为“版图图形的处理方法、装置、设备、介质及产品”的专利申请。其公开号为CN 119758661 A，申请日期为2025年2月。

从专利摘要可知，此申请属于图形处理技术领域，公开了一种版图图形的处理方法、装置、设备、介质及产品。具体方法如下：首先，获取第一版图图形，这个第一版图图形是经过光学邻近效应修正算法处理后的图形。在第一版图图形中，其边包含了多条非变量边和多条变量边，并且每条非变量边都连接在相邻两条变量边之间。接着，对第一版图图形中的边进行合并操作，把多条非变量边转换为对应的多条新的变量边，从而得到第二版图图形。最后，对第二版图图形中的至少部分边进行优化，得到第三版图图形。通过将第一版图图形中的非变量边转换为变量边，然后对包含多条新变量边的第二版图图形进行优化，最终得到的第三版图图形，能够提升在对其进行真实曝光后的图形质量。

通过天眼查资料了解到，东方晶源微电子科技（上海）有限公司于2021年成立，位于上海市，主要从事科技推广和应用服务业。该企业注册资本为10000万人民币，实缴资本4000万人民币。经过天眼查大数据分析，东方晶源微电子科技（上海）有限公司对外投资了1家企业，拥有25条专利信息，此外还拥有1个行政许可。

东方晶源微电子科技（上海）有限公司在2025年2月申请的版图图形处理专利，详细说明了专利的处理方法及优势，同时介绍了公司的基本情况，展现了该公司在科技领域的创新成果和发展态势。